高溫抽取式氨逃逸在線分析儀
系統介紹
在脫銷工藝氣體監測中，出口的氨逃逸（殘余氨）濃度檢測非常重要，這是因為氨逃逸是反映和考評脫銷效率的指標之一，同時過量的氨逃逸會生成銨鹽嚴重影響后續空預器等設備正常運行，因此NH3逃逸監測也是目前國內脫銷工藝中煙氣監測的重點和難點。HM-NH1000是武漢華敏引進國外多次反射池專利技術針對脫硝的工藝特點和監測難點而開發設計的一款全程超高溫原位抽取式激光監測分析系統。適用于眾多工業領域的氣體排放監測和過程控制，例如：燃煤發電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、核電站、垃圾發電站、水泥廠和化工廠等領域。
系統特點
光纖分布技術-實現主機與現場光學發射接收單元分離，可使一臺主機同時監測4個測點。無需校正技術-分析儀采用內置標準氣體參比模塊，實時鎖住氨氣吸收譜線，不受溫度、電源以及系統部件老化影響，系統無漂移，避免了系統定期校正煩惱。
氣、鏡分離的多次反射池技術，多次反射池有效光程達到30米，靈敏度可達0.1ppm，被測氣體與反射鏡分離不接觸，氣體干擾不會影響儀表測量精度和反射鏡腐蝕。所有樣品接觸部分均溫控到250℃，避免NH3與SO3產生NH4(HSO4)，造成采樣損失。
原位抽取采用方式沒有采樣管線，樣品氣體直接進入多次反射池，避免采樣損失。
系統技術參數列表
1. 系統配置
單通道HM10-NH3 適用于所有SCR/SNCR脫硝煙道單點監測
雙通道HM20-NH3 適用于一個機組的A、B煙道或自備電廠兩個小機組單獨煙道監測
2. 技術參數
測量原理 TDLAS
測量組分 NH3 (可增加NOx 和O2)
NH3：0-10ppm
量程范圍 NOx：0-1000ppm
O2： 0-21%
NH3：0.1ppm
分辨率 NOx：1ppm
O2： 0.01%
NH3：±0.1ppm
測量精度 NOx：±3%F S
O2：±1% F S
響應時間 ≤1S
儀表光程 30米
伴熱溫度 全程250℃
預熱時間 ≤30min
探頭工作溫度 0-500℃
探頭長度 1200、1500
